Intel'den Kritik Hamle: ABD'de Yeni Nesil Fotomask Üretim Tesisi Kuruluyor
Intel, 1.4nm sınıfı işlemciler ve High-NA EUV teknolojisi için kritik önem taşıyan fotomask üretim kapasitesini California'daki Bowers Kampüsü'nde genişletiyor.
#IMS Nanofabrication