Intel'den Kritik Hamle: ABD'de Yeni Nesil Fotomask Üretim Tesisi Kuruluyor
Intel, yarı iletken üretim süreçlerinin en kritik aşamalarından biri olan fotomask (retikül) üretim kapasitesini artırmak amacıyla California, Santa Clara'daki Bowers Kampüsü'nde genişleme çalışmalarını resmen başlattı. Şirket, ABD merkezli çip üretim liderliğini pekiştirmek için kampüse yeni bir üretim tesisi ve yardımcı bina inşa edecek.
1.4nm ve High-NA EUV Teknolojilerine Odaklanış
Yeni onay alan 107 bin fit karelik (yaklaşık 9.940 metrekare) tesis, Class 1 temiz oda standartlarında inşa edilecek. Tesis, 32nm'den 1.4nm sınıfına kadar geniş bir yelpazede, hem DUV hem de EUV katmanları için 6 inç x 6 inç boyutlarında fotomasklar yazabilecek kapasiteye sahip olacak.
Üretimin ana odağını Intel'in 18A, 18A-P ve 14A gibi en gelişmiş süreç teknolojileri oluşturuyor. Bu teknolojiler, özellikle yoğun desenler ve eğrisel optik yakınlık düzeltme (OPC) gerektiren gelişmiş DUV, EUV ve gelecekteki High-NA EUV araçlarına bağımlı olan yüksek hassasiyetli maskeler gerektiriyor.
Kendi Ekipmanını Üreten Tek Dev
Sektördeki pek çok oyuncunun aksine Intel, fotomask yazma işlemini kendi bünyesinde yürüten nadir şirketlerden biri. Üstelik Intel, iştiraki olan IMS Nanofabrication aracılığıyla fotomask yazma araçlarını kendi üreten tek yarı iletken üreticisi konumunda.
Geleneksel tek ışınlı (e-beam) araçların yavaşlığına karşılık, IMS'in geliştirdiği çok ışınlı maska yazıcılar (MBMW), 262.144 bağımsız programlanabilir elektron ışınını aynı anda yansıtabiliyor. Bu teknoloji, nanometre ölçeğinde yerleşim hassasiyeti sağlarken üretim hızını (throughput) katbekat artırıyor.
Neden Kendi Tesisinde Üretiyor?
EUV araçlarının zamanla maskelere zarar vermesi, yeni maskelerin çok kısa sürede üretilmesini zorunlu kılıyor. Her gelişmiş ürün için yüzlerce maske gerektiği ve her revizyonun üretim takvimini doğrudan etkilediği göz önüne alındığında, Intel'in bu süreci içeride yönetmesi stratejik bir avantaj sağlıyor. 1986'dan beri maska üretimine adanan Bowers Kampüsü, Oregon'daki Hillsboro tesisiyle birlikte Intel'in küresel maska altyapısının merkezini oluşturuyor.